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异型孔抛光去毛刺厂对纳米抛光机控制的几大要求

文章出处: 人气:: 发表时间:2018-09-20 17:34:37
超精密双面抛光精度及效率与加工环境、抛光转速、抛光运行模式、抛光压力、抛光液温度、流量等情况有着直接关系。为真正实现晶片的纳米级超精密表面加工,异型孔抛光去毛刺厂对纳米抛光机控制的几大要求有:(1)必须将各主轴抛光转速精度控制在+-0.1r/s以内,使工件加工总误差在1nm以内,以保证加工余量去除的一致性;(2)必须采用合理的“低速起动一无级提速—恒速加工—无级降速—低速停止”的抛光盘速度控制模式,避免加工速度变化过大对工件造成冲击损伤,以获得完美的加工质量和1nm以下(最高可达0. 12nm)的表面粗糙度;(3)必须控制异型孔抛光去毛刺加工环境的温度,设置高精度的抛光液温度检测补偿,以减少加工过程中所产生的热量对工件及机床本身的不利影响;(4)必须实现汽缸压力的精确控制,以精密控制抛光加工过程,实现平稳、高精度、高效率的抛光加工;(5)必须采用微机自动控制设备操作的模式,以排除异型孔抛光去毛刺操作人员人为因素对加工质量的影响,保证高水平、稳定一致的加工质量。http://www.sprafm.com
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